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표면처리

측정·검사 분야의 세계적 Leading Company

아인스의 핵심 경쟁력, ANODIZING

Anode양극

Oxidation산화

양극에서 산화되다.

전기화학 반응을 통하여 산화물 피막을 인위적으로 생성 → 가혹한 환경을 견딜 수 있도록 내구성 강화

공정

  • STEP 01

    Degreasing

    가공 절삭유, 유지 등 유기 오염물 제거

  • STEP 02

    Etching

    산막화 제거, 표면 활성화 및 표면 결함 제거

  • STEP 03

    Desmutting

    금속 합금 성분(Smut) 제거

  • STEP 04

    Anodizing

    산화 피막 형성

  • STEP 05

    Sealing

    봉공처리 - 내식성 강화

보유 기술

보유 기술
기술 특성 적용 제품
E2 coating Dry Etch 공정 진행중 Plasma Damage로 발생되는 Crack 최소화 (특허 보유) Dry Etch Parts
CO coating 고온 공정중에 발생되는 Crack 억제 Dry Etch Parts / CVD Parts
FOC coating Particle 및 Arcing 발생 방지 Dry Etch Parts / CVD Parts
Protective coating 알루미늄 모체 손상 최소화 목적, Alfx 반응물 생성 방지 효과 (특허 보유) Dry Etch Parts / CVD Parts
E-cleaning Diffuser Hole 내부 AlFx막 제거에 용이한 Cleaning (특허 진행중) CVD Parts
전선 연속 아노다이징 알루미늄 연선을 연속적으로 아노다이징 처리하는 기술 (특허 보유) 송전선

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