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NV-2400

3D Optical Surface Profiler 모든 표면 측정에 최적화된 디자인과 연구와 검사에 알맞은 소프트웨어를 탑재하여, 고객님의 기술과 제품의 질을 향상시켜드립니다.

main2400

  • NV-2400은 모든 표면의 형상을 가장 빠르게 측정할 수 있는 측정기이며, 나노시스템 고유의 특허인 백색광주사간섭계 WSI(White Light Interferometry) 및 알고리즘으로 개발된 제품입니다. X/Y 스테이지는 자동이며 Z축은 매뉴얼입니다. 이 제품은 특별히 연구소, 대학교, 또는 공정관리를 위해 제작되었습니다. 이 제품은 Stitching기능을 통해 대 영역(500㎟) 측정을 가능하게 해줍니다.
  • 특허 받은 WSI/PSI 기술은 재질이 1%의 반사율만 있다면 측정 가능하며, 표면형상의 높이, 넓이, 폭, 거칠기(Ra, Rq, Rz, Rt, etc)등 여러 측정 항목들을 출력해 줍니다.
  • 또한 WSI 기술은 높은 분해능(0.1nm )과 빠른 속도(2초)로 모든 표면을 측정 가능하게 합니다. 샘플을 훼손 하지 안고 비파괴로 0.1 nm 부터 10000 µm까지 측정하실 수 있으며 2/3D형상으로 측정 결과를 볼 수 있습니다. 뿐만 아니라 0.1% (1σ)의 세계 최고 수준의 반복능을 보장 합니다. 이 나노시스템의 기술은 PCB, display, engineering part, chemical material, optical parts, bio, R&D 등에 폭넓게 적용되고 있습니다.
-COG decap

COG decap

-MEMS

MEMS

-Metal mask

Metal mask

NV-2400 Benefit

  • - Excellent measuring accuracy
  • - Vibration-resistant design
  • - Fast measuring speed
  • - User-friendly S/W for measurement
  • - Stitching function
  • - 2D & 3D Multi-functional performance

Main Function

  • - 3D Shape Measurement
  • - Roughness (ISO 25178) & Flatness (option)
  • - High, Depth, Width (from Sub-nano to 10mm)
  • - Area Information (Volume, Area)
  • - 2D, 3D Measurement

Detail Features

  • - 0.1nm Vertical Resolution
  • - Same Z Axis Resolution (Regardless of Magnification)
  • - User-Friendly, Fast Measurement and Interface
  • - Non-destructive 3D Profiling
NV-2400

기술 비교

  • 일반 광학 현미경은 널리 쓰여지고 있지만 분해능과 반복능이 높지 않은 단점이 있습니다.
  • 전자현미경(SEM)은 준비과정을 포함하여 측정하는 시간까지 약 20분 넘는 시간이 소요됩니다 (star-up, vacuuming, and observation). 또한 챔버가 너무 작아 샘플을 파괴하지 않고는 측정하지 못하는 경우가 발생할 수 있습니다.
  • 전통적인 접촉식 조도측정기는 접촉식이기 때문에 샘플에 스크레치를 남기고 분해능이 2um로 제한됩니다.
  • 원자현미경(AFM)은 시간 소모로 유명하며 준비과정이 매우 복잡합니다. 이 측정 기술은 최대 12시간까지 소요될 수 있습니다.
  • NanoSystem WSI는 어떠한 준비 없이 2초만에 높은 분해능(0.1nm)과 반복능, 또한 고 배율로 0.1 nm 부터 10000 µm까지 2D/3D측정이 가능하기 때문에 많은 업체에서 나노시스템의 제품을 QC, QA, 또는 R&D의 목적으로 사용하고 있습니다.